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序号 模拟集成电路设计 数字集成电路设计 半导体器件物理 数字信号处理B 集成电路工艺原理
1 第1章 第1章-引论1 1 1 绪论1
2 第2章-1 引论2 2 2 绪论2 第1章-衬底材料
3 第2章-2 第2章-MOS晶体管原理 3 3 第2章-氧化
4 第2章-3 第2章2 4 4 第2章-2 第3章-扩散
5 第2章-4 第3章-CMOS制造工艺 5 5 第4章-离子注入
6 第3章-1 第3章2 6 6 第5章-光刻
7 第3章-2 第4章-延时 7 7 第5章-刻蚀工艺
8 第3章-3 第4章2 8 8 第6章-化学气相沉积
9 第3章-4 第5章-功耗 9 9 第7章-物理气相沉积
10 第3章-5 第5章2 10 10 第7章-外延部分
11 第4章-1 第6章-互连线 11 11 第8章-其他工艺概述
12 第4章-2 第6章2 12 12 第9章-工艺集成1
13 第4章-3 第7章-鲁棒性 13 13 第9章-工艺集成2
14 第5章-1 第7章2 14 14
15 第5章-2 第8章-电路仿真 15 15
16 第6章-1 第8章2 16 16
17 第6章-2 第9章-组合电路设计 17 17
18 第6章-3 第10章-时序电路设计 18 18
19 第7章-1 第10章2 19 19
20 习题课 第7章-2 习题课1 20 20
21 第7章-3 第11章-数据通路子系统 21 21
22 第7章-4 第11章2 22 22
23 第8章-1 习题课2 23 23
24 第8章-2 第11章3 24 24
25 第8章-3 第12章-阵列子系统 25 25
26 第8章-4 第12章2 26 26
27 第9章-1 第13章-专用子系统 27 27
28 第9章-2 第13章2 28 28
29 第9章-3 第14章-设计方法学与工具 29 29
30 第10章-1 第15章-测试、调试与验证 30 30
31 第10章-2 31
32 课程总结 32
33 第 章 33
34 研究生课程录播
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